NX2000

Система с тройным (SEM-FIB-Ar Triple beam)пучком, предназначенная для получения ламелей для ПЭМ с минимальной аморфизацией и эффекта затенения. Пост-обработка ламелей низкоэнергетическим аргоновым пучком позволяет избежать аморфизации образца в зоне травления и получить высококачественную ламель для исследований методами просвечивающей электронной микроскопии. Система попеременной работы FIB и SEM пучков с быстрой сменой позволяет получать высокоразрешающее SEM изображение во время травления для более точной обработки образца. Разнообразные опции автоматизации позволяют проводить потоковую обработку большого количества образцов с за минимальное время.

Major specifications
SEM	Источник электронов	Источник автоэлектронной эмиссии с холодным катодом
	Ускоряющее напряжение	0.5кВ～30кВ
	Разрешение	2.8 нм на 5 кВ, 3.5 рм @ 1 кВ
FIB	Ускоряющее напряжение	0.5кВ～30кВ
	SIM Разрешение	4нм на 30кВ
	Максимальный ток пучка	0.05pA to 100nA
	Плотность тока пучка	54A/cm2
Столик образца		5-осевой моторизованный эвцентрический столик X：0~205мм　Y：0~200mm　Z：0~10мм　Наклон：-5～60° Вращение：0~360°